
少层二硫化钼是过渡金属族硫化物家族中研究最为广泛的二维材料之一,二硫化钼是一种层状材料,层内是以结合力强的共价键或离子键结合而成,而层与层之间则是依靠结合力较弱的范德华力结合在一起,因而能够轻易的使用外力来打破层间束缚,成为厚度较薄的少层二硫化钼。
少层二硫化钼是典型的半导体材料,带隙宽度在1.2-1.9eV之间,具有优异的电学、光学特性,在材料学、自旋电子学、微纳加工、半导体器件、等方面具有重要的应用前景。
想要了解更多“少层二硫化钼”的信息,请点击:少层二硫化钼百科

少层二硫化钼是过渡金属族硫化物家族中研究最为广泛的二维材料之一,二硫化钼是一种层状材料,层内是以结合力强的共价键或离子键结合而成,而层与层之间则是依靠结合力较弱的范德华力结合在一起,因而能够轻易的使用外力来打破层间束缚,成为厚度较薄的少层二硫化钼。
少层二硫化钼是典型的半导体材料,带隙宽度在1.2-1.9eV之间,具有优异的电学、光学特性,在材料学、自旋电子学、微纳加工、半导体器件、等方面具有重要的应用前景。
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