芯片工艺制程
芯片工艺制程,又称工艺节点,是衡量半导体制造技术水平的核心指标,通常以纳米(nm)为单位表示,如7nm、5nm。它反映了芯片上晶体管的最小特征尺寸,数值越小,通常意味着晶体管尺寸更小、集成度更高、性能更强、功耗更低。现代制程节点的数字已不完全对应物理尺寸,而是技术代次的商业命名。过去半个多世纪,半导体产业基本遵循摩尔定律,通过不断缩小晶体管尺寸(即“几何缩微”)从纳米级演进到更小纳米级。关键技术进步包括1999年发明的FinFET(鳍式场效晶体管)和2021年出现的GAAFE
